Beperktedijkbewaking schreef op 5 november 2025 07:46:
[...]
Wát je ook van Substrate's ideeën kunt zeggen, aan efficiënte machines voor massaproductie van chips zijn ze nog lang niet toe. Zie bijvoorbeeld:
www.tomshardware.com/tech-industry/se... "However, Substrate still has a lot of work to do, .....
Substrate must prove that its X-ray lithography system can maintain beam stability, optical precision, resist compatibility, overlay accuracy, and commercial throughput simultaneously, something no X-ray platform has ever achieved."
"Existing photoresists are incompatible with X-ray radiation, as they are optimized for EUV radiation with considerably lower photon energy. So, Substrate will have to invent a proper resist and then produce it at volume. The company will also have to develop photomasks that can sustain X-ray radiation.
Grazing-incidence mirrors for X-rays are also not in mass production, and it is unknown whether they can be mass-produced cheaply and reliably by existing producers like
Zeiss."
Het geciteerde artikel gaat aan 't eind nog even door met andere bezwaren, maar nu wil ik even stilstaan bij mijn herinneringen aan dat 'arme' Zeiss. Oorspronkelijk Carl Zeiss Jena in Oost-Duitsland.
Gelukkig hadden ze al voor de val van de Muur een vestiging in West-Duitsland, waar ik in de 80-er jaren enkele super nauwkeurige lenzen bestelde die ik nodig had om twee toch al dunne laserbundels nog verder te focusseren. Om ze te laten snijden in een piepklein 'meetvolume' voor het bestuderen van micro-turbulentie in stromende vloeistoffen. Deze "laser-Doppler" methode was bekend in de aerodynamica (lees: vliegtuigindustrie), maar daar kunnen ze volstaan met meetvolumes ter grootte van een flinke sigaar, in water moet je terug gaan naar de afmetingen van een klein spijkertje.
'Normale' lenzen werkten van geen kant, ik moest naar Zeiss. Op maat gemaakt. Dat Zeiss nu 'hofleverancier' voor ASML is verbaast me niks.
Maar van welk materiaal moet Zeiss 'spiegels' maken voor de redelijk harde X-rays van Substrate, zonder dat het materiaal daardoor aangetast wordt? Dat weet ik ook niet precies (vermoedelijk is dat industrieel geheim), maar nu begrijp ik ineens dat door mij onderstreepte "grazing incidence" hierboven. Oftewel scherende inval.
Dat heeft te maken met de wetten van Fresnel: hoe lager de invalshoek hoe meer er gereflecteerd wordt en hoe minder geabsorbeerd. Er kan zelfs een kritische hoek zijn waaronder niks meer geabsorbeerd wordt. En dat wil je natuurlijk bij spiegels in chip-machines.
Enfin, veel bij Substrate is nog wensdenken. Nog vele jaren geen serieuze concurrent van ASML en/of TSMC, als het ooit al zover zou komen. Toch hebben ze wel een paar leuke dingen in huis, en zat ik enkele dagen terug fout met mijn veronderstelling dat ze wel een speciaal materiaal (metaal) ontdekt moesten hebben dat X-rays in de orde van 1 nm kon uitzenden.
Nee, dat doen ze op een andere manier, met pulsgewijze (RF) magnetische versnelling van elektronen tot zeer hoge snelheden waarbij ze 'in de bocht' vanzelf röntgenfotonen gaan uitzenden. Zo ongeveer als licht in een laser versterkt wordt. Men noemt de techniek van Substrate dan ook "Free-Electron laser" (FEL). En dat is duur, veel duurder dan de normale X-ray medische bestralingsapparatuur van Philips of Toshiba.
Dat FEL wil niet zeggen dat materiaalkeuzen voor Substrate makkelijk zijn. Ik noemde al Zeiss, maar er zijn meer lastige keuzen. Zoals de 'resist', het fotogevoelige materiaal.
Hier zeggen ze er meer over, o.a. over zink:
www.tomshardware.com/tech-industry/se...