LAM Research weet EUV te optimaliseren
donderdag 27 februari 2020 08:49
(ABM FN-Dow Jones) LAM research introduceert een nieuwe droge fotolaktechnologie die de prestaties van Extreme UltraViolet, kortweg EUV, verbetert. Dit meldde de Amerikaanse halfgeleiderspecialist woensdag nabeurs in New York.
LAM Research werkt samen met het Veldhovense ASML op het gebied van de nieuwe EUV technologie.
Door de technologie van LAM te combineren met die van onder meer ASML, zal EUV beter presteren, aldus de onderneming. Ook dalen de kosten.
“De strategische samenwerking op het gebied van dry resist-technologie ondersteunt chipmakers om beter presterende halfgeleiders te ontwikkelen tegen lagere kosten”, aldus CEO Peter Wennink van ASML.
Bron: ABM Financial NewsBeeld: ASML